高纯二氧化硅

二氧化硅（Silicon dioxide）又称硅石，分子式Si0₂，相对分子质量60.08。

1．产品性能

无色粉末或白色颗粒，不溶于水和普通酸，与氢氟酸作用生成四氟化硅。相对密度为2.2-2.6，熔点1710℃，沸点2230℃。

2．生产方法

正硅酸乙酯经精馏提纯、氨解得到硅酸沉淀，离心干燥后于900℃灼烧得高纯二氧化硅。

3．工艺流程

4．技术配方

正硅酸乙酯（工业品）           50

氨水（高纯）                   25

5．生产工艺

将化学纯正硅酸乙酯加到装有重齿型分馏柱及冷凝管的密闭式电加热不锈钢反应锅中，进行高效精馏，收集160-168℃的馏分，备用。

如果需要进一步提高产品纯度，精馏必须减慢速度，必要时可重蒸一次。

将25kg经过精馏的正硅酸乙酯置于50L白瓷缸中或相同容积的塑料桶内，加氨水12.5kg（正硅酸乙酯，氨水＝2:1，质量比），混合后加热，开启电动搅拌器充分搅拌，反应时间最短为20min，最长为1h。反应物由浑浊到稠状，最后溶液沸腾，停止搅拌，沉淀物静置过夜。

将静置过夜的沉淀物滤入铺有府绸布的离心袋中，等除去大部分滤液后再在离心机中甩至近干，然后把沉淀物移入反应锅内用电导水煮沸，让氨充分逸出，煮洗一定时间后，再次离心甩干。

将离心后的硅酸沉淀物装入3000mL瓷坩埚中，在80-90℃间干燥2-3天。将烘干的硅酸沉淀物放入圆形炉内于900℃下（直接升温）灼烧8h，然后自然冷却。次日取出即为成品。

说明：①水解时氨水加入量大，将会引起硅酸沉淀发黏，灼烧后粒子就硬。正硅酸离心甩干后，应尽量设法粉碎，否则灼烧会出现黑点而影响外观。

②灼烧时有大量NH₃气体逸出，生产中应加强防范措施。

6．产品标准

7．产品用途

可用作硅化合物和荧光粉的原料及光导纤维用材料，并在固体电路生产中用于扩散时控制锑浓度。