正性光致抗蚀剂与一般负性光致抗蚀剂不同，主要是邻叠氮醌化合物。在曝光过程中，邻叠氮醌化合物吸收能量引起光化学分解作用，经过较为复杂的反应过程，转变为可溶于显影液的物质，而未经感光的光致抗蚀剂则不溶于这种显影液。因此曝光显影后，所得图像与掩模相同，所以称作正性光致抗蚀剂。由于未经感光的光致抗蚀剂仍然保持它在紫外线照射下发生光分解反应的活性，故该种类型的光致抗蚀剂在光刻工艺过程中，能够多次曝光。邻叠氮醌化合物的化学结构通式如下：

邻重氮萘醌正性光致抗蚀剂的性能指标参见表9-3。

表9-3邻重氮萘醌正性光致抗蚀剂的性能指标

邻重氮蔡醌正性光致抗蚀剂主要由感光剂、成膜剂及添加剂组成。感光剂2-重氮-1,2-萘醌-5-磺酰氯可由1-萘酚-5-磺酸经硝化、重氮化而制得。具体反应如下：

经过重结晶后得到的酰氯为橙黄色晶体，易发生光解、热解和水解反应，需密闭、避光、低温和干燥保存。

成膜剂是正胶的基本成分，它对光刻胶的黏附性、抗蚀性、成膜性及显影性能均有影响，常用的多为酚醛树脂，一般为了获得线型酚醛树脂，采用酚量多于醛量，以草酸作催化剂进行缩聚，反应后用水蒸气蒸馏脱酚，经热水水洗、冷却后即得线型酚醛树脂。

正胶中加入少量硫脲或脂肪酸如癸酸有稳定作用，用对羟基亚苄基丙酮可以增加胶的稳定性和批与批之间的重复性，加入表面活性剂可以改善胶的涂布性能。

邻重氮萘醌正性光致抗蚀剂的生产工艺流程参见图9-7。工艺说明如下：

(1）将1-萘酚-5-磺酸在硝化釜D101内与硝酸在55℃下进行硝化2h。

(2）将D101内的物料在重氮化釜D102内进行重氮化，并在加入了二氯亚砜的磺酰氯釜D103内反应，制得感光剂2-重氮-1,2-萘醌5-磺酰氯。

(3）在反应釜D106内加入间甲酚、对甲酚及甲醛，反应3～6h生成线型酚醛树脂。

(4）将上步制得的酚醛树脂在D105内进行脱水精制。

(5)将精制后的线型酚醛树脂与2-重氮-1,2-萘醌-5-磺酰氯在溶解釜D104内进行溶解。

(6)将产品经粗过滤器L101、细过滤器L102两道工序后，即可包装成品出厂。

邻重氮萘醌正性光致抗蚀剂是在紫外（波长300～450nm）光通过掩膜照射后，光照部分重氮基发生分解重排成羧酸，用稀碱水处理时光照部分溶去，而未曝光部分则保留的一种光致抗蚀剂。是目前国际上用量急剧上升的一类抗蚀剂，适用于大规模集成电路和电子工业元器件及光学机械加工工艺的制作。除了用于接触曝光外，还可用于投影曝光和分布重复曝光等。

图9-7 邻重氮萘醌正性光致抗蚀剂生产工艺流程图